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二氧化硅的离线和在线粒度分析
二氧化硅的离线和在线粒度分析

二氧化硅的离线和在线粒度分析 2025-01-15

全文共 2251字,阅读大约需要 8分钟一、介绍 硅氧化物如SiO2是地壳中含量最丰富的成分。它在自然界中以结晶形式存在,并在工业...

在线培训课程公告 | 2025年奥法美嘉仪器使用培训线上课程安排及报名通道
在线培训课程公告 | 2025年奥法美嘉仪器使用培训线上课程安排及报...

在线培训课程公告 | 2025年奥法美嘉仪器使用培训线上课程安排及报名通道 2025-01-09

为帮助各位新老客户更全面地掌握仪器设备的操作与应用,奥法美嘉将定期举办仪器使用线上培训会。我们特制订了一系列线上培训课程...

一次性系统中的颗粒物污染水平
一次性系统中的颗粒物污染水平

一次性系统中的颗粒物污染水平 2024-12-19

全文共 2381字,阅读大约需要 8分钟一、介绍 一次性使用系统(SUS)的利用在制药和生物制药行业继续增长。随着SUS产品的采用越...

增材制造粉末中粒径的重要性
增材制造粉末中粒径的重要性

增材制造粉末中粒径的重要性 2024-12-19

本文隶属于一体化解决方案系列,全文共 3307字,阅读大约需要 12分钟摘要:增材制造(AM)或三维(3D)打印可以使用各种材料进行,...

LUM稳定性分析设备在处方筛选中的作用
LUM稳定性分析设备在处方筛选中的作用

LUM稳定性分析设备在处方筛选中的作用2024-12-09

1背景摘要:在复杂注射剂的研发和制剂开发中,处方筛选至关重要,它直接关系到药物的有效性、稳定性和安全性。本文主要介绍了 LU...

复杂注射剂之乳剂制备工艺探讨
复杂注射剂之乳剂制备工艺探讨

复杂注射剂之乳剂制备工艺探讨 2024-11-22

本文隶属于一体化解决方案系列,全文共 6593字,阅读大约需要 22分钟引言:高压均质机对于乳剂制备的作用乳剂通常是由两种互不...

大颗粒(LPC)对抛光效率和良品率的影响 — TEOS层的CMP抛光研究
大颗粒(LPC)对抛光效率和良品率的影响 — TEOS层的CMP抛光研究

大颗粒(LPC)对抛光效率和良品率的影响 — TEOS层的CMP抛光研究 2024-11-12

本文隶属于一体化解决方案系列,全文共 6324字,阅读大约需要 21分钟引言:LPC对CMP制程工艺的影响随着半导体行业的蓬勃发展,...

两种测定胶体稳定性的分析新技术:单颗粒光学传感技术(SPOS)和空间时间消光谱图(STEP)分析法
两种测定胶体稳定性的分析新技术:单颗粒光学传感技术(SPOS)和空...

两种测定胶体稳定性的分析新技术:单颗粒光学传感技术(SPOS)和空间时间消光谱图(STEP)分析法 2024-11-12

本文隶属于一体化解决方案系列,全文共 3215字,阅读大约需要 12分钟引言:胶体稳定性分析技术本文主要探讨了胶体悬浮液的稳定...

复杂注射剂粒度表征的整体解决方案
复杂注射剂粒度表征的整体解决方案

复杂注射剂粒度表征的整体解决方案 2024-11-12

本文隶属于一体化解决方案系列,全文共 3107字,阅读大约需要 12分钟摘要:复杂注射剂的粒径控制是其制备中的关键一环,注射剂...

一种利用商用研磨液颗粒评估CMP过滤器拦截效率的新方法
一种利用商用研磨液颗粒评估CMP过滤器拦截效率的新方法

一种利用商用研磨液颗粒评估CMP过滤器拦截效率的新方法2024-11-12

本文隶属于一体化解决方案系列,全文共 2831字,阅读大约需要 11分钟摘要:化学机械平坦化(CMP)研磨液(Slurry,浆料)包含少...

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